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Influence of the angular distribution function of incident particles on the microstructure and anomalous scaling behavior of thin films

机译:入射粒子的角分布函数对薄膜的微观结构和异常结垢行为的影响

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摘要

The microstructure and the scaling properties of films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition are reproduced with a discrete model that takes into account the angular distribution function of the particles and the lateral growth of the films. Both the experimental and simulated surfaces exhibit a granular microstructure and an anomalous scaling behavior characterized by values of the growth exponent β that vary with the scale of measurement. Depending on the angular distribution function used in the model, values of β ranging from 0.86 to 0.2 are obtained.
机译:通过离散模型再现了通过等离子体增强化学气相沉积法生长的薄膜的微观结构和结垢特性,该模型考虑了颗粒的角度分布函数和薄膜的横向生长。实验表面和模拟表面均显示出颗粒状的微观结构和异常的缩放行为,其特征在于生长指数β的值随测量规模而变化。根据模型中使用的角度分布函数,获得的β值为0.86到0.2。

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